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本发明提供一种氧化物阵列基板及其制备方法，所述阵列基板包括玻璃基板、底栅、第一栅极绝缘层、半导体层、第二栅极绝缘层、顶栅和驱动电路走线、第一中间绝缘层、第一透明导电层、第三金属层、第二中间绝缘层及第二透明导电层；半导体层的第一半导体单元两端...
该专利属于华映科技（集团）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华映科技（集团）股份有限公司授权不得商用。

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