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本申请提供一种光刻方法，包括：将待光刻的晶圆放置在工作台上；移动有机溶剂喷嘴使其对准晶圆的中心；以第一转速转动工作台，进行晶圆中心的有机溶剂喷涂；以大于第一转速的第二转速转动工作台，将有机溶剂喷嘴从晶圆中心沿晶圆径向往晶圆边缘区域移动，进行...
该专利属于华虹半导体（无锡）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华虹半导体（无锡）有限公司授权不得商用。

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