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本发明公开一种高去除率、低损伤的铜化学机械抛光液，由磨料、络合剂、成膜剂、分散剂、氧化剂及纯水组成，各原料的质量百分比为：磨料０．１％～２０％、络合剂０．１％～２％、成膜剂０．０１％～２％、分散剂０．１％～３％、氧化剂０．０１％～１０％、纯...
该专利属于大连三达奥克化学股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过大连三达奥克化学股份有限公司授权不得商用。

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