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本发明公开了一种成膜装置，包含反应腔以及设置于反应腔内部的基座、支撑柱和工艺套件；其中，所述反应腔用于为晶圆处理提供密闭场所；所述支撑柱设置于所述基座下方，用于支撑基座；所述工艺套件环绕所述基座设置，用于配合所述基座或所述反应腔的侧腔壁，形...
该专利属于中微半导体设备（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）股份有限公司授权不得商用。

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