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本发明公开了一种抽气环组件及气相沉积设备。所述气相沉积设备包括反应腔和位于所述反应腔内用于承载晶圆的托盘组件；所述抽气环组件包括：上抽气环，在所述反应腔内环绕托盘组件设置；下抽气环，在所述反应腔内设置于所述上抽气环的下方，包括2个或3个沿托...
该专利属于中微半导体设备（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）股份有限公司授权不得商用。

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