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一种利用X射线光波短、功率可调用于光刻晶元，将掩膜板图案复制在晶元上制取高制程芯片的一种装置，其特点采用小孔成像得实像的方法，将透镜组改为多孔成像方法，曝光一次即得整张芯片图案用卤化银和光刻胶均可完成高端芯片制取的装置。...
该专利属于柳保来所有，仅供学习研究参考，未经过柳保来授权不得商用。

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