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本发明主要揭示一种光阻剥离液及其用途，光阻剥离液应用于在一微影蚀刻之中以将一光阻层自一基板上剥除，且其组成包括：非质子溶剂、非四级胺的有机碱、含有一个羟基的芳香醇、以及去离子水。实验数据证实，在含有浓度范围介于0.5％至20％的非四级胺以及...
该专利属于芝普企业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过芝普企业股份有限公司授权不得商用。

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