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本公开提供了一种晶圆上下料的系统、方法及计算机存储介质。该系统包括:设置于研磨设备上料口处的上料中转缓存机构、用于存放经研磨设备研磨后的晶圆且装盛有去离子水的下料水槽缓存机构、上料机械臂以及下料机械臂;其中,上料机械臂,被配置成从上料中转缓...该专利属于西安奕斯伟材料科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过西安奕斯伟材料科技股份有限公司授权不得商用。
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本公开提供了一种晶圆上下料的系统、方法及计算机存储介质。该系统包括:设置于研磨设备上料口处的上料中转缓存机构、用于存放经研磨设备研磨后的晶圆且装盛有去离子水的下料水槽缓存机构、上料机械臂以及下料机械臂;其中,上料机械臂,被配置成从上料中转缓...