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本发明公开的侧边平滑的扩散阻挡层的制备方法，包括以下步骤：步骤1，选取晶圆，采用ICP刻蚀对晶圆表层进行处理；步骤2，在晶圆表面蒸镀氧化铝，形成氧化铝层；步骤3，在氧化铝层上旋涂正性光刻胶，并对旋涂后的正性光刻胶进行软烤处理；步骤4，在正性...
该专利属于陕西光电子先导院科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过陕西光电子先导院科技有限公司授权不得商用。

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