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一种功率器件制造技术
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文档序号:41492458
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一种功率器件,包括:衬底;在衬底上形成的外延层;在外延层上形成多个元胞区沟槽;在元胞区沟槽内形成有源极多晶硅和栅极多晶硅;在多个元胞区沟槽的外侧,还形成有终端沟槽,终端沟槽内形成有源极多晶硅;在元胞区沟槽(1)之间以及在元胞区沟槽与终端沟槽...
该专利属于深圳利芯威科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳利芯威科技有限公司授权不得商用。
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