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本发明公开了一种实现阻焊流的集成电路结构及其制备方法,属于集成电路制造领域,包括基材,该实现阻焊流的集成电路结构还包括连接在基材表面上的相互独立排列的至少2个以上的PN结,每一PN结远离基材的一段包覆有阻焊颈。本发明可以提高PN结的密集程度...该专利属于四川科尔威光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过四川科尔威光电科技有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种实现阻焊流的集成电路结构及其制备方法,属于集成电路制造领域,包括基材,该实现阻焊流的集成电路结构还包括连接在基材表面上的相互独立排列的至少2个以上的PN结,每一PN结远离基材的一段包覆有阻焊颈。本发明可以提高PN结的密集程度...