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本发明涉及化学气相沉积技术领域，公开了化学气相沉积装置及化学气相沉积系统。其中，化学气相沉积装置包括多个腔室和真空阀机构，多个腔室依次间隔设置，每个腔室上均开设有抽气口和放气口，真空阀机构设于任意相邻两个腔室之间，真空阀机构的插板阀芯可移动...
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