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本发明公开了一种制备六方氮化硼薄膜的方法，包括以下步骤：将载有硼粉的载具和金属基底均放置于反应器内；对硼粉和金属基底加热；向反应器内通入氮气与氢气的混合气体，开启射频源将气体电离并活化；电离成等离子体的气体与加热蒸发的硼粉在金属基底表面化合...
该专利属于电子科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过电子科技大学授权不得商用。

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