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本发明的一个实施方式提供一种用于在远紫外光刻（ＥＵＶＬ）系统中协助将同步加速器用作源的方法和装置，其中同步加速器的能量随着时间减少。ＥＵＶＬ系统可以包括步进器，其使用步进重复方式或步进扫描方式来将图案从标线片转移到晶片上。要求晶片以基本恒定...
该专利属于新思科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过新思科技有限公司授权不得商用。

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