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作为半导体基板或玻璃基板的清洗液或蚀刻液，采用氨、四甲基氢氧化铵以及氢氧化钠等水溶液，但由于碱成分中的金属杂质在处理过程中会吸附于基板表面，因此需要除去吸附的金属杂质的工序以作为后续工序。另外，在清洗液的情况下，虽然对微粒的除去有效果，但由...
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