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一种刻蚀偏差的计算方法及系统、图形修正方法及系统、掩膜版、设备以及存储介质,计算方法包括:提供待修正的目标图层,目标图层包括多个掩膜图形;获得与目标图层相关的一个或多个依次进行的图形传递步骤,一个或多个依次进行的图形传递步骤用于在目标膜层中...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。
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