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本发明涉及一种用于量测或检测设备的对焦方法及量测或检测方法,对焦方法包括:将待测样品放置于接收面,获取待测样品的反射率,基于反射率计算目标光强,调整光源系统以出射具有目标光强的入射光辐照待测样品;根据第二探测器采集到的总信号,提取第一信号光...该专利属于上海精积微半导体技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海精积微半导体技术有限公司授权不得商用。
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本发明涉及一种用于量测或检测设备的对焦方法及量测或检测方法,对焦方法包括:将待测样品放置于接收面,获取待测样品的反射率,基于反射率计算目标光强,调整光源系统以出射具有目标光强的入射光辐照待测样品;根据第二探测器采集到的总信号,提取第一信号光...