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本发明公开了一种多蒸发源间隔蒸镀装置及镀膜方法，涉及真空蒸镀装置技术领域，包括：线性蒸发源：其并列设有多个，该线性蒸发源可喷出蒸气，用于对基板进行蒸镀；掩膜板：其位于基板下方，并设有相互间隔设置的多个遮蔽部和多个开口部；驱动机构：其用于驱动...
该专利属于季华实验室所有，仅供学习研究参考，未经过季华实验室授权不得商用。

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