下载一种高均匀性化学气相沉积碳化硅涂层载盘的技术资料

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本技术涉及半导体加工技术领域,具体涉及一种高均匀性化学气相沉积碳化硅涂层载盘,包括具有碳化硅涂层的载盘本体,所述载盘本体底部外壁螺接有螺纹套,且螺纹套底部外壁固定连接有卡弧,卡弧底部外壁设置有四个支撑机构,支撑机构包括支撑脚,且支撑脚顶部外...
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