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本技术公开了一种硅片边缘清洁装置，涉及半导体前端加工技术领域。包括箱体，箱体的内腔安装有支架，支架整体呈U形，支架的两臂顶端均安装有对硅片进行限位的滚轮，支架的底内壁一侧设有驱动硅片进行转动并对其进行清洁的刷辊，箱体的顶部设有配合刷辊对硅片...
该专利属于深圳至元精密设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳至元精密设备有限公司授权不得商用。

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