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外延结构制造技术
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文档序号:41418617
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一种外延结构,包含一基板、一第一缓冲层、一第二缓冲层及一通道层,所述第一缓冲层位于所述基板上方,所述第一缓冲层包含一第一部分,所述第一部分包含三元或三元以上的一氮化物且所述氮化物的铝原子浓度小于等于25at%,且所述第一部分具有元素掺杂,掺...
该专利属于环球晶圆股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过环球晶圆股份有限公司授权不得商用。
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