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一种半导体结构及其形成方法，其中形成方法包括：提供衬底，衬底内具有导电开口，导电开口的侧壁包括第一区和第二区；在导电开口的侧壁和底部表面形成第一黏附层；在第一黏附层上形成导电层，衬底暴露出导电层的顶部表面；去除第二区表面的第一黏附层形成填充...
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