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一种半导体结构及其形成方法，其中形成方法包括：提供衬底；在所述衬底上形成鳍部结构和栅极结构，所述鳍部结构包括若干沿所述衬底表面法线方向重叠排布的沟道层，相邻的所述沟道层在所述衬底上投影部分重叠，所述栅极结构横跨所述鳍部结构，所述栅极结构包围...
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