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本技术公开了一种晶体粗打磨装置,涉及晶体打磨技术领域,解决了目前在对晶体进行打磨处理时,晶体的顶侧面会出现毛刺,造成晶体打磨不充分,其次顶部打磨处理后需要通过人工进行翻转打磨,进而影响晶体打磨的整体性,以及机会降低晶体打磨处理的效率的技术问...该专利属于福州致卓晶体光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过福州致卓晶体光电科技有限公司授权不得商用。
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本技术公开了一种晶体粗打磨装置,涉及晶体打磨技术领域,解决了目前在对晶体进行打磨处理时,晶体的顶侧面会出现毛刺,造成晶体打磨不充分,其次顶部打磨处理后需要通过人工进行翻转打磨,进而影响晶体打磨的整体性,以及机会降低晶体打磨处理的效率的技术问...