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本技术公开了一种LPCVD软着陆双层炉管机构,其技术方案要点是,包括炉体,炉体一侧设有炉口,另一侧设有炉尾,所述炉体内还设有石英管,所述石英管内设有金属管,所述炉体靠近炉口一端通过第一法兰组分别与石英管及金属管连接,所述炉体靠近炉尾一端还通...该专利属于赛瑞达智能电子装备(无锡)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过赛瑞达智能电子装备(无锡)有限公司授权不得商用。
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本技术公开了一种LPCVD软着陆双层炉管机构,其技术方案要点是,包括炉体,炉体一侧设有炉口,另一侧设有炉尾,所述炉体内还设有石英管,所述石英管内设有金属管,所述炉体靠近炉口一端通过第一法兰组分别与石英管及金属管连接,所述炉体靠近炉尾一端还通...