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本技术涉及化学气相沉积反应设备领域，具体是一种均匀连续大面积制备的化学气相沉积反应设备。该设备由供气系统、原料区、反应区、成品区和尾气及真空系统构成，原料区与反应区的反应炉管进料端连接，成品区与反应区的反应炉管出料端连接，原料区的推送托轨与...
该专利属于中国科学院金属研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院金属研究所授权不得商用。

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