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本技术实施例公开了一种硅片表面金属杂质的取样装置，包括取样槽和排水管路；取样槽在使用时，容纳待取样的硅片和提取液；排水管路与取样槽的底部相连通，提取液通过排水管路流出。该取样装置通过取样槽容纳待取样的硅片和提取液，不同种类的硅片样品以及不同...
该专利属于上海超硅半导体股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海超硅半导体股份有限公司授权不得商用。

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