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本发明提供一种将多种反应气体依次向基板供给的成膜装置，在真空容器内供给第１及第２反应气体来形成薄膜，其具有：旋转台；第１反应气体供给部及第２反应气体供给部，其分别在以旋转中心为圆心的第１角度位置和第２角度位置沿径向延伸；第１分离气体供给部，...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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