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本发明提供一种成膜装置及基板处理装置，该成膜装置具有：旋转台、从旋转台的周缘朝向旋转中心设置的第１反应气体供给部和第２反应气体供给部、设置于该第１反应气体供给部和第２反应气体供给部之间的第１分离气体供给部。该成膜装置中形成有：包含第１反应气...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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