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本发明提供一种成膜装置、基板处理装置及成膜方法，成膜装置包含以可旋转的方式设置在在容器内的旋转台。第１及第２反应气体供给部分别向旋转台的一个面供给第１反应气体及第２反应气体。向位于被供给第１反应气体的第１处理区域和被供给第２反应气体的第２处...
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