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一种一维边缘电接触封装的拓扑超导体结构制造技术
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文档序号:41370701
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本发明公开了一种一维边缘电接触封装的拓扑超导体结构,结构包括由拓扑超导体构成的电子传输层,所述拓扑超导体置于六角氮化硼之间,构成范德瓦尔斯异质结,所述范德瓦尔斯异质结的下方设置重掺杂硅,所述范德瓦尔斯异质结的顶部设置蒸镀金属,所述范德瓦尔斯...
该专利属于南京大学所有,仅供学习研究参考,未经过南京大学授权不得商用。
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