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本发明提供一种像素结构以及像素结构的制作方法。所述方法包括下列步骤：首先，提供基板，基板上已形成有主动元件以及电容电极线。接着，在基板上形成保护层，覆盖主动元件。接着，在保护层上形成遮光图案层，以定义出单元区域，其中在电容电极线上方未覆盖有...
该专利属于友达光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过友达光电股份有限公司授权不得商用。

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