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一种半导体结构及测试方法,结构包括:基底;测试环结构,位于所述基底顶部,所述测试环结构包括多层堆叠的互连层,每层所述互连层均沿所述主芯片区的边界环绕所述主芯片区,所述互连层包括交替堆叠的奇数层互连层和偶数层互连层,所述奇数层互连层和偶数层互...该专利属于中芯国际集成电路制造(北京)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(北京)有限公司授权不得商用。
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一种半导体结构及测试方法,结构包括:基底;测试环结构,位于所述基底顶部,所述测试环结构包括多层堆叠的互连层,每层所述互连层均沿所述主芯片区的边界环绕所述主芯片区,所述互连层包括交替堆叠的奇数层互连层和偶数层互连层,所述奇数层互连层和偶数层互...