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本发明提供了气相沉积系统和与该系统相关的方法。所述系统可设计成包括如下特征：能够促进高质量的沉积；简化制造、改进和使用；以及减少所述系统的占地面积，以及其它优点。...
该专利属于剑桥纳米科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过剑桥纳米科技公司授权不得商用。

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