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本发明涉及半导体刻蚀技术领域，且公开了一种半导体刻蚀设备，包括底座，底座的顶部通过两组L型支架固定连接有刻蚀槽，刻蚀槽的外表面套设有包裹框，刻蚀槽的底部开设有若干个条形孔，底座顶部的两侧均固定连接有支撑板，两个支撑板的内部均滑动连接有滑动架...
该专利属于陕西理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过陕西理工大学授权不得商用。

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