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本技术公开了半导体材料氧化处理设备，包括氧化箱，所述氧化箱的下端固定安装有支撑块，所述支撑块的下端安装有支撑座，所述氧化箱的内部固定安装有固定栅板，所述氧化箱的内部活动安装有活动栅板，所述氧化箱内部的两侧均固定安装有加热丝，所述氧化箱内部的...
该专利属于陕西振安臻达电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过陕西振安臻达电子科技有限公司授权不得商用。

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