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本发明提供一种修正光学线宽量测准确性的方法，包括：提供一半导体结构，其形成有器件工艺膜层；于器件工艺膜层的表面形成OCD图形，OCD图形包括间隔设置的OCD量测图形及辅助图形，OCD量测图形包括至少两种材料，各材料交替且周期性地形成于器件工...
该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。

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