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本公开提供了用于处理基板的设备，该设备包括：第一碗状件和其中的处理空间；第一支承部，设置在处理空间中，并且被配置成将基板支承在第一支承位置；第二碗状件，设置成在处理空间中在第一方向上移动；第二支承部，被配置成相对于第一支承部上下移动以及将基...
该专利属于细美事有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过细美事有限公司授权不得商用。

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