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本发明公开了一种优化线端尺寸补偿的OPC处理方法，包括如下步骤：在版图对应的图层中选择具有受光罩制作尺寸限制的第一图形位置，将第一图形位置对应的线端作为需优化线端。对需优化线端进行初始尺寸补偿，初始尺寸补偿完成后保证第一图形位置处的图形尺寸...
该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。

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