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一种同炉进行氮离子注入及CrAlN涂层镀覆的表面处理方法技术
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下载一种同炉进行氮离子注入及CrAlN涂层镀覆的表面处理方法的技术资料
文档序号:41324103
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本发明属于涂层技术领域,提供了一种同炉进行氮离子注入及CrAlN涂层镀覆的表面处理方法。结合渗氮技术及物理气相沉积技术的优点,解决了表面渗氮技术制备的膜层较软、耐磨性差等问题,优化了物理气相沉积技术制备的膜层与基体的结合性,大大缩短制备时间...
该专利属于沈阳乐贝真空技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过沈阳乐贝真空技术有限公司授权不得商用。
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