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本发明涉及半导体光刻技术领域，更具体地，涉及一种EUV掩模缺陷检测系统装调对准方法。本发明利用第一四象限探测器和光瞳监视器的功能特性实现调焦校准，第一四象限探测器能够计算出光斑中心与第一四象限探测器中心的偏离值，从而检测光斑的位置，光瞳监视...
该专利属于中山大学所有，仅供学习研究参考，未经过中山大学授权不得商用。

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