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本发明涉及胺化合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供为正型、负型皆是高感度，且能改善LWR、CDU的化学增幅抗蚀剂组成物、该化学增幅抗蚀剂组成物使用的淬灭剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。下式(1)表示的胺化合物...
该专利属于信越化学工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过信越化学工业株式会社授权不得商用。

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