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本发明属于光刻胶技术领域，具体涉及稠环芳香烃衍生物的化学放大正性光刻胶及其制备方法和应用。所述光刻胶中基体成分为通式(I)所示的稠环芳香烃衍生物，可以在光刻胶常用的有机溶剂中溶解。本发明的光刻胶组合物可以制备得到均匀的薄膜，在制膜过程中，作...
该专利属于中国科学院化学研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院化学研究所授权不得商用。

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