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本技术公开了一种微纳光栅，包括碳化硅基底、光催化层和保护层。碳化硅基底的一侧具有刻蚀结构。光催化层沉积于碳化硅基底上，光催化层填充刻蚀结构。保护层沉积于光催化层上，保护层用于保护光催化层。相比于现有技术，本技术通过合理选择微纳光栅的结构及材...
该专利属于杭州邦齐州科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州邦齐州科技有限公司授权不得商用。

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