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本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，该组合物含有用酸性水溶液洗涤并且用离子交换树脂处理后的、由下述通式（２）所示的感放射线性有机化合物构成的光致抗蚀剂基材；光酸发生剂或者光碱发生剂；以及猝灭剂；式中，Ａ为由下式所示的有机基团；Ｂ、Ｃ和Ｄ相互独立...
该专利属于出光兴产株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过出光兴产株式会社授权不得商用。

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