下载激光辐射方法和使用其方法制造半导体装置的方法的技术资料

文档序号:4129020

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本发明提供一种激光辐射方法,用于即使被辐射物的厚度不均匀也能够对被辐射物进行均匀的激光辐射。在对具有不均匀厚度的被辐射物进行辐射的情况下,通过使用自动聚焦机构,可以在执行激光辐射的同时使被辐射物和透镜之间的距离保持不变,其中该透镜用于使激光...
该专利属于株式会社半导体能源研究所所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社半导体能源研究所授权不得商用。

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