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垂直结构半导体电子器件及其制备方法技术
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文档序号:41288135
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本发明公开了一种垂直结构半导体电子器件及其制备方法。所述垂直结构半导体电子器件包括:半导体结构,包括导电层、电流通道层、反型层和沟道层,所述导电层、电流通道层和沟道层沿指定方向依次设置,所述电流通道层的第一区域中形成有电流通道,所述反型层至...
该专利属于江西省纳米技术研究院所有,仅供学习研究参考,未经过江西省纳米技术研究院授权不得商用。
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