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本发明公开了一种气体分配件、气体输送装置和薄膜处理装置，该气体分配件内设置有气体扩散通道以及位于气体扩散通道外围的边缘进气通道，所述气体扩散通道包括一底面凸出于气体分配件底面的凹陷部，所述凹陷部将气体分配件底面下方的区域分割为内部区域和外围...
该专利属于中微半导体设备（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）股份有限公司授权不得商用。

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