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本发明涉及一种有机‑无机杂化锑基氧氟化物二阶非线性光学晶体材料及其制备和应用，该材料其化学式为(C<subgt;5</subgt;H<subgt;5</subgt;NO)(Sb<subgt;2</subg...
该专利属于同济大学所有，仅供学习研究参考，未经过同济大学授权不得商用。

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