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本发明提供半导体装置及形成屏蔽结构的方法。半导体装置包括基底、多个屏蔽结构及多个栅极结构。屏蔽结构设置在基底胞元区中且自基底第一表面延伸至基底中。相邻两个屏蔽结构在胞元区中界定具第一导电型的漂移区。漂移区在邻近屏蔽结构的侧壁形成基体区。基体...
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